
Elektronika i Półprzewodniki
Wzrost zaawansowania technologicznego wymusił obniżenie limitów w analizie śladowej metali. Bezpośrednio z czystością użytych materiałów związana jest szybkość produkowanych podzespołów elektronicznych. Wzrost skomplikowania geometrii wymusił zastosowanie niezwykle czystych procesów jak również odczynników chemicznych szczególnie rozpuszczalników organicznych. Stanowi to istotny problem dla chemików analityków, którzy muszą oznaczyć ponad 30 elementów na poziomie części na bilion. Najczęściej stosowanymi aparatami do analizy śladowej są ICP-MS i aparaty absorpcji atomowej wykorzystujące technikę pieca grafitowego. Techniki te wymagają stosowania specjalnych metod przygotowania próby w celu rozpuszczenia matrycy organicznej i otrzymania homogennego roztworu wodnego.
Wzrost zaawansowania technologicznego wymusił obniżenie limitów w analizie śladowej metali. Bezpośrednio z czystością użytych materiałów związana jest szybkość produkowanych podzespołów elektronicznych. Wzrost skomplikowania geometrii wymusił zastosowanie niezwykle czystych procesów jak również odczynników chemicznych szczególnie rozpuszczalników organicznych. Stanowi to istotny problem dla chemików analityków, którzy muszą oznaczyć ponad 30 elementów na poziomie części na bilion. Najczęściej stosowanymi aparatami do analizy śladowej są ICP-MS i aparaty absorpcji atomowej wykorzystujące technikę pieca grafitowego. Techniki te wymagają stosowania specjalnych metod przygotowania próby w celu rozpuszczenia matrycy organicznej i otrzymania homogennego roztworu wodnego.